IT之家6月29日消息，比利时微电子研究中心（IMEC）和ASML今日宣布，双方将加强下一阶段最先进高数值孔径（High-NA）极紫外（EUV）光刻技术的开发测试线。 合作为使用半导体技术的行业提供原型平台和未开发的未来机会。 今天签署的谅解备忘录旨在帮助使用半导体技术的行业了解先进半导体技术带来的机遇，并获得原型平台来支持其创新。 imec、ASML和其他合作伙伴之间的合作将使得探索新的半导体应用、为芯片制造商和最终用户开发可持续、尖端制造解决方案的可能性，以及与器件和材料生态系统的协作提供先进的总体模式流程。 IT之家从官方新闻稿中看到，双方签署的谅解备忘录包括在比利时鲁汶的 IMEC 测试线上安装和服务 ASML 的所有先进光刻和测量设备，包括最新的 0.55 NA EUV（EXE： 5200)、0.33 NA EUV (NXE:3800)、DUV 浸没式 (NXT:2100i)、光 ...